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Parts & Consumables
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| 实物图 | 中文名称 | PN | 说明 |
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光刻胶蚀刻残留物去除剂 | 光刻胶去除剂 | › EKC800 to remove positive photoresists with no hard bake process › EKC830 to remove positivephotoresists with harsh process history › EKC865 to remove positive photoresists without damaging sensitive metals (Remover 1165) › EKC922 to remove both positive and negativephotoresists over cured or semi semi-cured polyimide without damaging |
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光刻胶蚀刻残留物去除剂 | EKC830 | EKC® 830 是有效去除存在铝的杜邦 MX5000 系列干膜的理想选择。本产品可用于喷雾加工设备和湿式工作台。 |
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光刻胶蚀刻残留物去除剂 | EKC270™ | 接触清洁 / 金属线清洁 / TSV深硅穿孔清洁 / 钨埋位线清洗 / 聚酰亚胺清洗 / Pad清洁 / MEMS清洗 |
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CMP 研磨液 | Novaplane™ | Novaplane™ 浆料平台是一系列钨 (W) 浆料，具有高去除率和可调选择性，可以提供卓越的形貌性能，满足缺陷减少要求并提供低拥有成本，以满足客户在钨 CMP 抛光方面的需求。 |
