中 English

Model 212 紫外掩膜曝光机

Model 212 紫外掩膜曝光机由OAI设计与制造
一种用于大面积基板的低成本研发工具。这是一款多功能工具，既能适配较小尺寸的基板和掩模，也能轻松升级以处理更大尺寸的基板。适用于封装、显示器、有机发光二极管（OLED）、半导体晶圆的研发，其规格与 OAI 200 型台式掩模对准器相同。

Model 212 紫外掩膜曝光机

 

Model212 大面积掩模对准器是一款高性价比的高性能掩模对准器，其采用了 OAI 经行业验证的组件，正是这些组件使 OAI 在光刻设备行业处于地位。212 型是一款台式掩模对准器，所需洁净室空间极小，为大面积基板、液晶显示器（LCD）、薄膜晶体管、面板级封装和有机发光二极管（OLED）的研发提供了经济实惠的选择。借助 OAI 创新的真空吸盘调平系统，大面积基板（最大可达 12 英寸 ×12 英寸或 300 毫米 ×300 毫米）能快速、轻柔地实现调平，确保在曝光过程中光刻掩模的精准对准和均匀接触。该系统可实现 1 微米的分辨率和对准精度。对准模块配备了掩模插入组和快换式晶圆吸盘，无需专用工具即可便捷使用多种基板和掩模。212 型大面积掩模对准器配备了经过验证的 OAI 紫外线光源，使用功率范围为 200 至 2000 瓦的灯，可提供近紫外、中紫外或深紫外的准直紫外光。双传感器光学反馈回路与恒定强度控制器相连，将曝光强度控制在所需强度的 ±2% 以内。

可处理的基板尺寸最大为 12 英寸 ×12 英寸或 300 毫米 ×300 毫米

——————————————————————————————————————

特点

 

占地面积小

价格实惠

精密对准

紫外光具有高准直性和均匀性

可轻松适配多种大面积基板和掩模

 

 

 

 

Model 212 紫外掩膜曝光机

 

Model 212 紫外掩膜曝光机规格参数

 

相关产品

相关新闻

联系我们

我们希望了解您的需求，请填写以下表单并提交

您的姓名
邮箱地址
联系电话
您的需求
询报价单
售后服务