Ion Source 离子源
等离子离子源 LMIS 和 GFIS 是三种常见的离子源类型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此，它们被广泛用于高分辨率离子束成像和微加工应用。然而，LMIS 和 GFIS 的总电流比等离子离子源低许多数量级。如果特征尺寸大于 50 nm，则等离子离子源可以实现比 LMIS 和 GFIS 高得多的通量。
等离子离子源 LMIS 和 GFIS 是三种常见的离子源类型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此，它们被广泛用于高分辨率离子束成像和微加工应用。然而，LMIS 和 GFIS 的总电流比等离子离子源低许多数量级。如果特征尺寸大于 50 nm，则等离子离子源可以实现比 LMIS 和 GFIS 高得多的通量。
Ion Source离子源适用于各种应用的高亮度等离子离子源
等离子离子源 LMIS 和 GFIS 是三种常见的离子源类型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此，它们被广泛用于高分辨率离子束成像和微加工应用。然而，LMIS 和 GFIS 的总电流比等离子离子源低许多数量级。如果特征尺寸大于 50 nm，则等离子离子源可以实现比 LMIS 和 GFIS 高得多的通量。
等离子离子源可以通过改变工艺气体产生不同种类的离子。此外，等离子离子源能够与质量过滤器结合使用产生负离子种类。
我们在为大学和工业的研究实验室设计定制的高亮度等离子离子源和离子光学柱方面拥有丰富的经验。请联系我们讨论您的要求。
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