Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机

Enhanced Front and Backside Semi-automatic Mask Aligner

Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机由OAI设计与制造
在半导体行业，OAI 拥有 40 余年产品研发和制造经验，以专为研发及半自动生产设计的光刻设备，应对动态市场日益增长的挑战。800E 型基于经实践验证的 OAI 模块化平台打造，是一套增强型、高性能、高分辨率光刻系统，在该价格段性能好。对准器搭载 OAI 优良光束光学技术，均匀性佳。

Model 800E 增强型半自动紫外掩膜曝光机

在半导体行业，OAI 拥有 40 余年产品研发和制造经验，以专为研发及半自动生产设计的光刻设备，应对动态市场日益增长的挑战。800E 型基于经实践验证的 OAI 模块化平台打造，是一套增强型、高性能、高分辨率光刻系统，在该价格段性价比高。对准器搭载 OAI 优良光束光学技术，良好均匀性。借助 OAI 精密光刻模块可实现升级，800E 型成为实验室或现场适用的多功能工具。它采用 Windows 10 控制及配方存储功能，还配备操纵杆控制的对准和光学载台，可配置非接触式三点楔效应校正及自动对准功能。这些特性组合常见于更昂贵的掩模对准器，而 800E 型以实惠价格即可提供。

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标准正面特性

配备双 100 万像素分辨率的千兆以太网（GIGE）CCD 相机
可处理最大 8 英寸见方的基板，掩模最大为 9 英寸 ×9 英寸
由带配方存储功能的 Windows 电脑控制
电动操纵杆用于对准和定位
曝光模式：真空、硬接触、软接触和接近式
自动楔效应补偿

标准背面特性

包含上述所有正面特性，另加：
额外配备 2 个相机（共 4 个）
数字变焦功能
电动背面光学聚焦

半自动正面对准背面对准优良光束光学系统2相机和4相机版本多种可选配置