Model 6020 全自动掩模曝光机
Model 6020 全自动掩模曝光机由OAI设计与制造
用于重新分布层(RDL)面板级封装和玻璃面板曝光的大尺寸基板生产型掩模对准器或泛光曝光系统。
Model 6020 全自动掩模曝光机由OAI设计与制造
用于重新分布层(RDL)面板级封装和玻璃面板曝光的大尺寸基板生产型掩模对准器或泛光曝光系统。
顶面 / 底面对准
高吞吐量
1 千瓦–8 千瓦准直光束光源,光束尺寸从 12 平方英寸到 20 平方英寸
光源光束均匀性达 3-5%
用于自动对准的高速编码器和电机
SECS/GEM 通信协议兼容性
多种面板处理能力
12 平方英寸到 20 平方英寸的面板
可选分步卡盘,用于子面板加工
14 平方英寸到 24 平方英寸的掩模插入件
楔形效应调平
工艺重复性
<2.0 微米的印刷分辨率
远程诊断
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