半个多世纪以来，OAI 在紫外线光强与能量测量仪器领域一直较高水平。该仪器能为半导体、微机电系统（MEMS）、晶圆封装及晶圆凸点制作行业的光刻工艺，提供可靠、精准且经校准的控制。659 型是一款*的紫外线曝光分析仪，专为适配各类晶圆步进光刻机（包括高强度晶圆步进光刻机 ）而设计。这款仪器可存储多达 400 组曝光读数，配备以太网和 USB 接口用于下载已记录的测量数据，光强量程最高可达 7500 毫瓦每平方厘米 。探头可选波长为 365 纳米、400 纳米、420 纳米和 436 纳米 。OAI 拥有完备的校准实验室，以确保我们仪器的性能、质量和可靠性 。659 型仪器可溯源至美国国家标准与技术研究院（NIST）标准，且符合 ROHS2（《关于限制在电子电气设备中使用某些有害成分的指令》第二版 ）及 CE（欧洲合格评定 ）认证要求 。
探头
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用户界面：触摸屏
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计算机接口：可选以太网和 USB 接口，用于下载已记录的测量数据
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电源：电池供电，采用带充电保护的 3.7V 可充电锂离子电池
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充电器电源：110 – 240V 交流电压
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显示设置：双屏幕
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设置屏幕 – 以太网地址、日期和时间
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运行屏幕 – 波长、光强、时间、剂量、探头温度、探头类型、偏差百分比、序列号、校准到期日期、电池状态、探头序列号及充电器状态
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存储容量：最多 400 个读数
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光强范围：最高 7500mW/cm²
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光强分辨率：0.01mW/cm²
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剂量范围：最高 1000J/cm²
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剂量分辨率：0.01mJ/cm²
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时间范围：最长 9999 秒
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时间分辨率：0.0001 秒
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最小剂量曝光：25 毫秒
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尺寸：14 英寸 ×8.25 英寸 ×3.5 英寸
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重量：3.5 磅
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工作环境：15℃ – 40℃
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合规性：符合 ROHS2 及 CE（电磁兼容性和安全）标准
