F54薄膜厚度测量仪

F54-XY系列

图案化晶圆的自动膜厚测量

F54-XY拥有先进的反射光谱仪系统,可轻松实现对最大300mm晶圆样品的膜厚测量。

F54-XY-200型膜厚仪可测量最大尺寸200mm的样品,电动XY载台可实现预选点位的自动测量,测量速度最高可达每秒2个视场点。

F54-XYT-300型膜厚仪具备高性能旋转样品台,可实现对300mm晶圆样品的测量。

 

系统内置极坐标、矩形阵列、直线等多种点位图形,用户也可自定义创建测量点阵,且无最多测量点数的限制。

模式识别功能可满足阵列式或非阵列式晶圆的测量需求。

 

F54-XY系列不同机型的主要区别在于待测薄膜的厚度和光源波段。一般情况下,待测膜厚越小,则需使用更短波长的光源进行测量(如 F54-XY-200-UV),反之长波光源则可以满足更厚、粗糙或透明度更低的薄膜厚度测量需求。

包含的内容:

集成光谱仪/光源装置

FILMapper 测量软件

SiO2厚度标准

集成式硅反射标准

真空泵

F54-XY选配:

模式识别软件

自动转塔

高通滤波器转轮

可追溯的 NIST 厚度标准

型号规格

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