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Tergeo 系列台式等离子清洗机

PIE SCIENTIFIC LLC

PIE Scientific专门开发用于等离子蚀刻、清洁、表面处理、离子和电子束生产应用的先进等离子系统。我们的公司由劳伦斯伯克利国家实验室等离子和离子源技术小组的校友创立。在硅谷开发先进半导体资本设备 15 年之后，我们意识到许多现有的低成本等离子清洁器和等离子处理系统仍在使用几十年前的技术。因此，我们决定将为半导体行业和核研究开发的最先进的等离子技术引入到价格实惠的等离子仪器中。我们的 SmartClean™ 技术受到了客户的好评。

技术参数

 

  • 采用外部电极设计，等离子体均匀性更好。
  • 独特的等离子体传感器技术，可定量测量等离子体强度。
  • 一个系统中包含直接/浸没模式和远程/下游等离子处理模式。
  • 连续和脉冲等离子体可使清洗速度改变3-4个数量级。
  • 高频 13.56MHz 射频电源，具有自动阻抗匹配功能。在相同的射频功率额定值下，MHz 等离子系统的效率比 KHz 等离子系统高出许多倍。
  • 先进的过程控制技术。
  • 质量流量控制器 (MFC) 调节气体输入，而不是手动转子流量计或粗针阀。
  • 先进的数字压力传感器，可精确监测压力。
  • 全自动操作，支持 20 种配方。
  • 直观的电阻式触摸屏用户界面。

 

 

以下是一些典型的应用：

集成电路芯片引线键合、封装前的清洗。

TEM 和 SEM 样品清洗，以去除碳氢化合物污染。

通过等离子处理来实现亲水或疏水表面的润湿性。

表面处理以提高环氧树脂/胶水的粘合强度。

用于光学、激光和通信的玻璃和光纤头清洁。

提高 MEMS 微流体设备的润湿性。

图案化后，对光刻胶进行灰化和清除残渣。

设备拆封以进行故障分析。

隐形眼镜、医疗植入物和其他类型医疗器械的表面处理和活化
设备选件 测试数据 资料下载 视频

实验室台式等离子蚀刻机，也称为等离子清洁器和等离子灰化器，可用于产生氧气、氩气、氮气、氢气、CF4、SF6、环境空气和水蒸气等离子体。Tergeo 系列等离子系统是一种真空等离子设备，可处理直径范围从小于 4 英寸到大于 8 英寸的样品。基于配方的全自动操作可确保可重复的结果。型号包括：

  • 基本款 Tergeo 等离子清洗机，腔体直径为 4.3 英寸，深度为 11 英寸。高频 1.356MHz 射频功率（0-75W 或 0-150W）。大学教授实验室的理想选择。
  • Tergeo-Plus 等离子灰化机，腔体直径为 6.3 英寸，深度为 11 英寸。三种射频功率选项：0-150 瓦、0-300 瓦、0-500 瓦，频率为 13.56MHz。
  • Tergeo-Pro 等离子灰化机将腔体直径增加到 9 英寸，深度增加到 13.4 英寸。三种射频功率选项：0-150 瓦、0-300 瓦、0-500 瓦，频率为 13.56MHz。是工业客户和大学共享设施的理想选择。
  • Tergeo-EM等离子刻蚀机是一款专门用于SEM和TEM样品清洗的等离子清洗系统，受到了世界各地TEM实验室的一致好评。

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