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实物图 中文名称 PN 说明
光刻胶蚀刻残留物去除剂 EKC265™ 应用EKC265™蚀刻后残留物器广泛应用在半导体行业，从高深宽比MEMS器件100μm+ 到*DRAM 的70nm集成的各个阶段
光刻胶蚀刻残留物去除剂 EKC830 EKC® 830 是有效去除存在铝的杜邦 MX5000 系列干膜的理想选择。本产品可用于喷雾加工设备和湿式工作台。
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