The AT410 is the most cost-effective thermal ALD tool on the market.
AT410 经济型原子层沉积设备具备诸多优势：为占地小的桌面系统，尺寸明确；有新增功能可用的空心阴极射频源（AT – 410 Plus 配 300W 等离子）
AT410 经济型原子层沉积设备具备诸多优势：为占地小的桌面系统，尺寸明确；有新增功能可用的空心阴极射频源（AT – 410 Plus 配 300W 等离子）
The AT410 is the most cost-effective thermal ALD tool on the market.
AT410 经济型原子层沉积设备具备诸多优势：为占地小的桌面系统，尺寸明确；有新增功能可用的空心阴极射频源（AT – 410 Plus 配 300W 等离子）；采用半导体级金属密封管线、高温兼容快速脉冲 ALD 阀、集成惰性气体吹扫的超快 MFC；4 英寸圆卡盘可定制；支持 3 种特定有机金属前体和一定数量反应物；有完整加热管线；全铝（半导体级）腔室有温度范围，卡盘可选更高温度；配 7 英寸触摸屏 PLC 控制器，无需 PC 。
Features
占地面积小的桌面系统 （< 0.15m3 | 2.5 平方英尺）
高温兼容快速脉冲 ALD 阀，带有超快 MFC，用于集成惰性气体吹扫。
4 英寸圆卡盘可针对较小尺寸或其他形状（11 毫米高）进行定制。
3 种高达 180 °C 的有机金属前体和 2 种（最多 3 种）反反应物。
Heated lines throughout (from precursor through to chamber).
High exposure (for trenches and porous substrates) and static processing mode
全铝（半导体级）腔室 – 温度范围高达 320 °C
7″ touchscreen PLC controller (no PC required)
包括终身软件升级
1 年保修（包括零件）
Specifications
室温从室温到 320°C ± 1 °C;前驱体温度从室温到 180°C ± 2°C（带加热夹套）
市场上占地面积最小（2.5 平方英尺），台式安装和洁净室兼容
系统维护简单，公用事业和前体使用量在市场
Streamlined chamber design and small chamber volume
快速循环能力（高达 1.2nm/min Al2O3）和高曝光、深穿透处理
Full HW and SW interlocks for safe operation even in multi-user environment
Options
· 定制卡盘/压板（方形、小件压痕、批量）
· 定制腔室（较厚的基板，例如：光学元件）
· 新 可选卡盘至 450 + °C（咨询我们）
ATOzone – Ozone generator (required for some films: Pt, Ir, SiO2, MoO2, high quality Al2O3 below 60°C, high quality HfO2)2、MoO2high quality Al2O3 below 60°C2O3、high quality HfO22）
Optional – Ozone Safety Monitor w real time detection of ambient ozone gas
· QCM（温度补偿石英晶体微量天平）
· 手套箱集成（通常要求不将基材暴露在潮湿环境中;氮化物、硫化物等。
External control – PC/software link (allows programming and running, remotely)
Ventable Precursor cabinet
Spare Chamber
IGPA (inert gas pressure assist)for low vapor pressure precursors
Third counter reactant
Software control of third counter reactant
Installation
For detailed instructions see our presentation and video instructions: “AT410/610 Installation and Start-up“
· N2 purge gas should be >99.9995% with a shutoff valve (regulated to 10 – 30 psi, metal sealed), .
Input line is 1/4 female VCR compression fitting
Attach > 99.9995% nitrogen (UHP) purge gas via 1/4″ metal line to the 1/4″ compression fitting on back
· 通过 90/110 英寸聚乙烯管或金属线将 1-4 psi CDA（清洁干燥空气）连接到另一个标有 · · CDA（清洁干燥空气）的 1/4 英寸压缩接头
· 最小 12cfm 湿泵（**需要 PTFE 真空流体（如 Fomblin）（610 和 810 使用更大的泵，通常为 19.5 cfm 或更高）
NW25 (KF25) (1″) connection and also exhaust line (with > 5cfm draw)
Greater than 1 meter should use NW40 (1.5″) exhaust line
Precursor’s attach via female VCR elbows (always use new gaskets).
Elbow: 1/4″ gasket first (with gloves on)
有关前驱体连接，请参阅 AT410/610 安装和启动。
Software
有关详细说明，请参阅我们的演示和视频说明：“AT410_610 安装和启动 ”
Input subcycles and overall cycles
· 人机界面 （HMI） PLC 系统，带 7 英寸触摸屏
panel
· 适用于标准 ALD 循环沉积的高级控制，如
· 以及例如纳米层压板、掺杂薄膜和三元薄膜
Recipe database for high quality, tested processes
Custom recipe input screen
Real time display of process status
Individually programmable heated source temperatures
Built-in pulsing sequences for ternary compounds and nano-laminates
Quick running with simple questions to get user going
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